Mikrogalvanoformung

Galvanischer Aufbau in mikroskaligen Formstrukturen

Bei der Mikrogalvanoformung wird Metall elektrochemisch in vorbereitete Mikrostrukturen abgeschieden. Grundlage ist in der Regel eine strukturierte Vorlage mit leitfähiger Oberfläche, auf der das Metall kontrolliert anwächst. Nach dem Erreichen der gewünschten Dicke kann die Form entfernt werden, sodass feine Konturen, Durchbrüche und Kanten erhalten bleiben. Das Verfahren dient damit nicht nur der Oberflächenveredelung, sondern der gezielten Herstellung von Geometrie.

Typische Bauteile und Einsatzsituationen

Die Leistung eignet sich für Bauteile mit sehr kleinen Strukturen, engen Öffnungen oder wiederkehrenden Mustern. Typische Einsatzfelder sind feine Sieb- und Filterstrukturen, Düsenplatten, Mikroformen, Prägestrukturen sowie Kontakt- oder Sensorelemente. Relevant ist das Verfahren vor allem dort, wo mechanische Stabilität, elektrische Leitfähigkeit oder eine präzise Replikation kleiner Geometrien gefordert sind.

Einfluss von Vorlage, Schichtdicke und Träger

Das Ergebnis hängt stark von der Qualität der strukturierten Vorlage, der Stromverteilung und dem kontrollierten Schichtaufbau ab. Je nach Ausführung bleibt die erzeugte Metallstruktur auf einem Träger oder wird nach dem Prozess abgelöst. Auch die gewählte Schichtdicke ist prozessbestimmend, weil sie die Formtreue, Eigenstabilität und spätere Funktion der Mikrostruktur beeinflusst. Für Lohnarbeiten ist deshalb die Abstimmung zwischen Geometrie, Werkstoff und Entformung entscheidend.

Abgrenzung zu chemischen Beschichtungen und Dünnschichtverfahren

Innerhalb der chemischen Oberflächenbehandlungen nimmt die Mikrogalvanoformung eine eigene Stellung ein. Im Unterschied zu chemischem Verkupfern oder chemischem Vernickeln steht nicht die flächige Beschichtung eines vorhandenen Bauteils im Vordergrund, sondern der formgebende Metallaufbau. Gegenüber partieller Galvanisierung geht es nicht um selektiv beschichtete Zonen, sondern um die Herstellung definierter Mikrogeometrien. Von CVD- und PVD-Verfahren grenzt sich die Leistung durch den elektrochemischen Aufbau in einer Form und den Fokus auf strukturbildende, nicht nur dünn aufgebrachte Schichten ab.